Ю. К. Бобрецова, Д. А. Веселов, А. А. Климов, К. В. Бахвалов, В. В. Шамахов, С. О. Слипченко, В. В. Андрюшкин, Н. А. Пихтин
- Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, г. Санкт-Петербург
- Национальный исследовательский университет ИТМО, г. С.-Петербург
Аннотация: Методом ввода зондирующего излучения экспериментально исследовано поглощение оптического излучения на свободных носителях заряда в слоях AlGaAs/GaAs-гетероструктуры с целью определения параметра сечения поглощения в материале AlGaAs с высоким (22%) содержанием алюминия. Для исследований были изготовлены специальные образцы на основе AlGaAs/GaAs-гетероструктур, имитирующих лазерный волновод с легированием n-типа и концентрацией носителей заряда в диапазоне 5 × 1016 – 3 × 1017см-3. Измерены профиль легирования, состав и толщины слоев, а также исследованы температурная и спектральная зависимости коэффициента поглощения. Показано, что увеличение температуры и длины волны приводят к росту поглощения в слоях гетероструктуры.
Ключевые слова: полупроводниковый лазер, полупроводниковая гетероструктура, оптическое поглощение на свободных носителях, сечение поглощения.
Поступила в редакцию: 31.08.2021
Исправленный вариант: 07.10.2021
Образец цитирования: Ю. К. Бобрецова, Д. А. Веселов, А. А. Климов, К. В. Бахвалов, В. В. Шамахов, С. О. Слипченко, В. В. Андрюшкин, Н. А. Пихтин, “Оптическое поглощение в волноводе AlGaAs-гетероструктуры n-типа”, Квантовая электроника, 51:11 (2021), 987–991 [Quantum Electron., 51:11 (2021), 987–991]
Скачать (.pdf)