И. А. Артюков
- Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук, г. Москва
Аннотация: Представлен обзор развития методов промышленной фотолитографии на основе эксимерных лазеров и проекционной рентгеновской литографии в конце XX века – начале XXI века. Отражён вклад Н.Г.Басова и его коллег в ФИАНе и МИФИ в развитие этого направления.
Ключевые слова: фотолитография, рентгеновская оптика, многослойная рентгеновская оптика, проекционная рентгеновская литография.
Поступила в редакцию: 16.09.2022
Исправленный вариант: 08.12.2022
Образец цитирования: И. А. Артюков, “Оптическая и рентгеновская микролитография на рубеже веков”, Квантовая электроника, 52:12 (2022), 1094–1101
Скачать (.pdf)