Оптическая и рентгеновская микролитография на рубеже веков
И. А. Артюков Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук, г. Москва Аннотация: Представлен обзор развития методов промышленной фотолитографии на основе эксимерных лазеров и проекционной рентгеновской литографии в конце XX века – начале XXI века. Отражён вклад Н.Г.Басова и его коллег в ФИАНе и МИФИ в развитие этого направления. Ключевые слова: фотолитография, рентгеновская… Читать далее »