Эффективность генерации излучения в полосе 8–14 нм ионами криптона при импульсном лазерном возбуждении

Автор: | 17.11.2022

А. Н. Нечай, С. А. Гарахин, А. Я. Лопатин, В. Н. Полковников, Д. Г. Реунов, Н. Н. Салащенко, М. Н. Торопов, Н. И. Чхало, Н. Н. Цыбин

  • Институт физики микроструктур РАН, г. Нижний Новгород
Аннотация: Исследованы спектры излучения плазмы криптона в диапазоне 8–14 нм при возбуждении импульсной газовой струи излучением Nd :YAG-лазера с энергией импульса 0.85 Дж при длительности 5.2 нс, частоте следования 10 Гц и длине волны излучения 1.06 мкм. Спектр излучения криптона представляет собой широкую (8–14 нм) полосу с максимумом на длине волны 10.3 нм, образованную рядом значительно более узких линий. Проведена идентификация наблюдаемых линий и определена доля энергии лазерного импульса, преобразованная в эмиссионную полосу 8–14 нм и излученная в полупространство (2π ср). Максимальный коэффициент конверсии составил 21%. Осуществлено сравнение ожидаемой производительности литографических систем с источниками на основе ионов Sn, Xe и Kr для разных длин волн, соответствующих максимумам эмиссионных полос ионов этих материалов.
Ключевые слова: лазерная искра, плазма криптона, экстремальное ультрафиолетовое излучение, импульсная газовая мишень, коэффициент конверсии, литография.
Поступила в редакцию: 06.02.2020
Англоязычная версия:
Quantum Electronics, 2020, 50:4, 408–413
Образец цитирования: А. Н. Нечай, С. А. Гарахин, А. Я. Лопатин, В. Н. Полковников, Д. Г. Реунов, Н. Н. Салащенко, М. Н. Торопов, Н. И. Чхало, Н. Н. Цыбин, “Эффективность генерации излучения в полосе 8–14 нм ионами криптона при импульсном лазерном возбуждении”, Квантовая электроника, 50:4 (2020), 408–413 [Quantum Electron., 50:4 (2020), 408–413]