Влияние толщины пассивирующего реактивного титанового слоя зеркальных граней на электрические характеристики диодных лазеров
Н. С. Утков, А. Е. Дракин, Г. Т. Микаелян ООО “Лассард”, г.Обнинск, Московская обл. Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук, г. Москва ООО “НПП Инжект”, Россия, Саратов Аннотация: Описан метод определения допустимой толщины слоя титана для пассивирования излучающих граней диодного лазера. Пассивация реактивным металлом легко встраиваема в процесс производства диодных лазеров. В… Читать далее »